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產(chǎn)品中心

ICP-AES光譜儀廠家

產(chǎn)品簡介:ICP-AES光譜儀廠家,主要用于微量/痕量元素的分析,可分析的元素為大多數(shù)的金屬和硅,磷等少量的非金屬,共72種。廣泛應(yīng)用于稀土、貴金屬、合金材料、電子產(chǎn)品、醫(yī)藥衛(wèi)生、冶金、地質(zhì)、石油、化工、商檢、環(huán)保以及釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等行業(yè)分析檢測(cè),可對(duì)待測(cè)樣品進(jìn)行定性或從超微量到常量的定量分析。

更新時(shí)間:2024-04-07
產(chǎn)品型號(hào):ICP-900
產(chǎn)品產(chǎn)地:濟(jì)南
詳情介紹
品牌精測(cè)價(jià)格區(qū)間面議
儀器種類順序掃描應(yīng)用領(lǐng)域農(nóng)業(yè),地礦,建材,交通,汽車

ICP-AES光譜儀廠家

ICP-AES光譜儀廠家

ICP光譜分析儀(ICP-AES/OES),主要用于微量/痕量元素的分析,可分析的元素為大多數(shù)的金屬和硅,磷等少量的非金屬,共72種。廣泛應(yīng)用于稀土、貴金屬、合金材料、電子產(chǎn)品、醫(yī)藥衛(wèi)生、冶金、地質(zhì)、石油、化工、商檢、環(huán)保以及釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等行業(yè)分析檢測(cè),可對(duì)待測(cè)樣品進(jìn)行定性或從超微量到常量的定量分析。

一、ICP光譜分析儀整機(jī)主要性能參數(shù):

1、波長范圍:190~500nm(3600L/mm光柵)或190~800nm(2400L/mm光柵);

2、分辨率: 0.006nm(3600L/mm光柵)或0.01nm(2400L/mm光柵);

3、波長示值和重復(fù)性:波長示值≤0.02nm,重復(fù)性≤0.003nm;

4、掃描步距:0.0004nm;

5、重復(fù)性:RSD≤1.0%;

6、穩(wěn)定性:RSD≤1.5%;

7、檢出限:ppb級(jí);

8、分析元素范圍:70余種金屬與非金屬元素;

9、線性范圍:7個(gè)數(shù)量級(jí)以上,且自吸效應(yīng)極低;

10、分析速度:每分鐘掃描最快達(dá)25個(gè)元素以上;

11、等級(jí)證書:符合標(biāo)準(zhǔn)。

12、規(guī)格要求滿足,測(cè)量范圍:190-500nm

13 規(guī)格大?。洪L寬高:1.5mX0.60mX1.2m  立式儀器方便推挪,免裝試驗(yàn)臺(tái)

14 配智能冷卻循環(huán)水箱(YT-1800)

15 配電腦聯(lián)想

16 配惠普激光打印機(jī)


二、ICP光譜分析儀各部件詳細(xì)參數(shù):

射頻發(fā)生器(RF)

(1)電路類型:電感反饋?zhàn)约な秸袷庪娐贰⑼S電纜輸出、匹配調(diào)諧、取功率反饋信號(hào),進(jìn)行閉環(huán)自動(dòng)控制;

(2)工作頻率:40.68MHz±0.05%;

(3)頻率穩(wěn)定性:≤0.05%;

(4)輸出功率:800~1200W;

分光器

(1)光路:Czerny-Turner;

(2)焦距:1000mm;

(3)光柵規(guī)格:離子刻蝕全息光柵;

(4)分光器恒溫裝置:26℃±1℃。

測(cè)光裝置

(1)光電倍增管規(guī)格:R212UH或R928;

(2)測(cè)光方式:單、多元素順序測(cè)量。

操作軟件:

(1)操作系統(tǒng):Windows XP 操作平臺(tái);

(2)測(cè)定波長數(shù):任意選擇;

(3)分析速度:每分鐘最快25個(gè)元素以上;

(4)數(shù)據(jù)庫:譜線庫11萬條以上;

(5)多窗口:在測(cè)量完一次結(jié)果后可以在顯示窗口保留上次結(jié)果同時(shí)、測(cè)量下一樣品;

(6)標(biāo)準(zhǔn)加入法:軟件要有標(biāo)準(zhǔn)加入法,以便在不同條件和應(yīng)用中下使用;

(7)分析模式:軟件默認(rèn)最佳分析模式,擁有儀器診斷、譜圖分析及幾種測(cè)量方式和幾種積分模式,單位任選等多種功能;

(8)歷史數(shù)據(jù)庫:在歷史數(shù)據(jù)庫中,可以同時(shí)可選擇性地打印想要打印的批次分析結(jié)果;

(9)數(shù)據(jù)輸出:軟件支持激光打印機(jī)打印分析結(jié)果。

(10)語言:可中英文雙語

(11)有公司自己LOGO



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